国产新一代光刻机模型亮相，核心部件自主化率超九成

透明剖视模型首次完整呈现内部链路

在近期举办的进博会上，上海微电子装备集团（SMEE）将自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800的模型带到了中国馆，向外界展示我国前道光刻装备自主化的最新阶段性成果。

与常见的设备外观展示不同，这次亮相的模型采用透明剖视设计，整机的光学光路与内部机电系统链路布局一览无余。对光刻机这类高度复杂的尖端工业装备来说，剖视模型的价值正在于此——原本高度保密的内部结构被打开，光的传输路径、机电系统的协同逻辑都能直观看到。

从光学到机电，关键环节全部自主可控

据SMEE介绍，该平台是完全自主搭建的国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统，均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

换句话说，从光学到机电、从传输到对准，所有影响设备核心性能的关键环节都掌握在自己手中，不存在外部供应链卡脖子的风险。

成像性能对标国际领先产品

性能是检验装备成色的硬指标。目前国产前道干式光刻机的成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率等核心参数也在紧密追赶国际标杆。

在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台打造，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆，其中SSC800整体性能跻身全球行业第一梯队。

这意味着国产干式光刻机早已跨过“能用”的入门门槛，在核心指标上站到了可以与国际领先产品同台比拼的位置。

国产化率超九成，量产线数据说话

自主可控不止体现在设计层面，更体现在制造与验证的全流程环节。基于全栈自主可控的技术底座，两款机型的关键零部件国产化率突破90%，目前已完成技术定型并进入规模化量产阶段，填补了国内相关领域的长期空白。

比纸面参数更具说服力的是真实产线的运行数据：多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备全年有效运行率超92%。量产线上的长期稳定表现与高有效运行率，才是衡量高端半导体制造装备可靠性的最硬核标准。

有行业资深人士表示，随着前道光刻装备这一最核心的短板被逐步补齐，真正的全国产半导体时代很快就要到来，国内整个芯片制造产业链的自主化迭代速度，也会随之迈入全新的快车道。